随着电子设备向高频化、大功率化发展,兼具优异绝缘与导热性能的材料成为技术关键。氧化铍陶瓷以其高达200-250W/(m·K)的导热系数、高抗折强度、低介电损耗及高绝缘性,成为高端电子器件的理想基板材料。通过金属化工艺(如厚膜烧结、直接键合铜和活性金属焊接),可在其表面形成牢固的金属层,使其能够连接芯片与电路,广泛应用于高频大功率场景。
然而,氧化铍陶瓷的普及面临多重限制:原料氧化铍粉末具有剧毒,需严格防护,推高了安全成本;原材料价格昂贵,且金属化工艺复杂,良品率仅60%-70%,导致整体成本高昂;此外,其在高温下热稳定性会下降,并可能分解产生有毒气体。与此同时,氮化铝和碳化硅等替代材料在成本、安全性和高温稳定性方面展现出优势,正逐步占领民用市场。因此,氧化铍陶瓷未来可能更多应用于航天、军工等特定高端领域,而非主流选择。
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